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龙腾半导体申请具有双场阻止层的 RC-IGBT 结构及其制造方法专利,可提升功率芯片性能和可靠性

金融界 2025 年 4 月 2 日消息,国家知识产权局信息显示,龙腾半导体股份有限公司申请一项名为“一种具有双场阻止层的 RC-IGBT 结构及其制造方法”的专利,公开号 CN 119743997 A,申请日期为 2024 年 12 月。专利摘要显示,本发明提出了一种具有双场阻止层的 RC‑IGB

2025-04-02 18:23:00